霍尼韋爾公司(Honeywell)今天宣布,該公司電子材料業(yè)務(wù)部門將提升在亞太地區(qū)的制造能力,以生產(chǎn)300mm物理氣相沉積(PVD)濺射靶材�；裟犴f爾位于韓國Jincheon的工廠將為這一關(guān)鍵地區(qū)客戶就地提供用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的領(lǐng)先技術(shù)材料�；裟犴f爾韓國工廠現(xiàn)有產(chǎn)能包括為支持200mm（用于生產(chǎn)多種集成電路或者芯片的硅晶圓的直徑）半導(dǎo)體制造而進(jìn)行的材料生產(chǎn)�；裟犴f爾電子材料業(yè)務(wù)部門負(fù)責(zé)金屬業(yè)務(wù)的總經(jīng)理兼部門主管DmitryShashkov表示：“我們
霍尼韋爾公司 (Honeywell)今天宣布,該公司
電子材料業(yè)務(wù)部門將提升在亞太地區(qū)的制造能力,以生產(chǎn)
300mm 物理氣相沉積 (
PVD) 濺射靶材�；裟犴f爾位于韓國 Jincheon 的工廠將為這一關(guān)鍵地區(qū)客戶就地提供用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的領(lǐng)先技術(shù)材料。
霍尼韋爾韓國工廠現(xiàn)有產(chǎn)能包括為支持
200mm（用于生產(chǎn)
多種集成電路或者芯片的硅晶圓的直徑）半導(dǎo)體制造而進(jìn)行的材料生產(chǎn)。
霍尼韋爾電子材料業(yè)務(wù)部門負(fù)責(zé)金屬業(yè)務(wù)的總經(jīng)理兼部門主管 Dmitry Shashkov 表示：“我們致力于向亞太客戶提供最先進(jìn)的材料以幫助滿足其需求。我們認(rèn)為這一新工廠將發(fā)展成為一家核心的技術(shù)和支持中心�！�
霍尼韋爾新的面向亞太地區(qū)的 300mm 物理氣相沉積靶材制造能力將于今年下半年變成現(xiàn)實(shí),這種靶材的制造是該公司致力于亞太地區(qū)的整體努力的一部分,而亞太地區(qū)用于向全球各地出口的芯片越來越多。霍尼韋爾位于華盛頓州斯波坎 (Spokane) 的工廠同樣從事 300mm 物理氣相沉積靶材制造。
越來越多領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造商使用更大的 300mm 晶圓,以提高生產(chǎn)效率,降低成本。物理氣相沉積靶材被用作芯片上的金屬來源。由 200mm 制程向 300mm 制程的重大轉(zhuǎn)變帶來了對(duì)新工具和材料的需求。
2004年年底,霍尼韋爾在中國上海的浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)正式開設(shè)了該公司亞太總部和技術(shù)/研發(fā)中心。該設(shè)施的建筑面積超過161,500平方英尺（合
15,000平方米）,擁有開發(fā)實(shí)驗(yàn)室和測(cè)試中心,并且全面支持霍尼韋爾在整個(gè)亞太地區(qū)的部門（包括電子材料業(yè)務(wù)部門）。
